Στόχοι εκτόξευσης τιτανίου υψηλής καθαρότητας
Όταν χρειάζεστε σταθερές,-λεπτές μεμβράνες υψηλής απόδοσης για ημιαγωγική, οπτική ή βιομηχανική επίστρωση, η ποιότητα του στόχου σας καθορίζει τα πάντα.
Οι στόχοι διασκορπισμού Ti είναι το κύριο υλικό πηγής που χρησιμοποιείται στη διασκορπισμό μαγνητρονίου (PVD) για την εναπόθεση μεμβρανών καθαρού τιτανίου, TiN, TiAlN και λειτουργικών μεμβρανών-τιτανίου στα υποστρώματά σας.

Ti TargetΠροδιαγραφές
|
Είδος |
Προσδιορισμός |
|
Υλικό |
Εμπορικά καθαρό τιτάνιο (Grade 1, Grade 2) ή κράματα τιτανίου |
|
Καθαρότητα |
3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%), 5N (99,999%) για ημιαγωγούς |
|
Πυκνότητα |
Μεγαλύτερο ή ίσο με 4,51 g/cm³ |
|
Ελεγχόμενες ακαθαρσίες |
Fe, Cr, Ni, O, N, C, H (ελεγχόμενη ανά βαθμό καθαρότητας) |
|
Σχήματα |
Στρογγυλά, ορθογώνια, περιστροφικά (κυλινδρικά), προσαρμοσμένα προφίλ |
|
Μέγεθος |
Ø50 – Ø300 mm, πάχος 3–10 mm, μήκος: 4000 mm |
|
Επιλογές συγκόλλησης |
Πλάκα στήριξης από χαλκό ή αλουμίνιο, μηχανική σύσφιξη, μονολιθική |
|
Φινίρισμα επιφάνειας |
Μηχανικά επεξεργασμένο, αμμοβολή, γυαλισμένο,-καθαρισμένο με οξύ, συσκευασία υπό κενό |
Τύποι στόχων Ti Sputtering που μπορείτε να επιλέξετε
|
Οχι. |
Υλικό |
Σύνθεση |
Βασικά Χαρακτηριστικά |
Τυπικές Εφαρμογές |
|
1 |
CP Titanium (Gr1 / Gr2) |
Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,5% Ti |
Χαμηλές ακαθαρσίες, σταθερό ψεκασμό |
Ηλεκτρονικά, διακοσμητικά επιχρίσματα |
|
2 |
Τιτάνιο υψηλής καθαρότητας (4N / 5N) |
Μεγαλύτερο ή ίσο με 99,99% Ti |
Εξαιρετικά-καθαρές ταινίες |
Ημιαγωγοί, οπτικές επιστρώσεις |
|
3 |
Στόχος Ti-6Al-4V |
Ti-6Al-4V |
Εναπόθεση φιλμ κράματος, υψηλή αντοχή |
Λειτουργικές και δομικές επιστρώσεις |
|
4 |
Στόχος TiAl / TiAl3 |
30–50% Αλ |
Παράγει TiAlN υπερ-σκληρές επικαλύψεις |
Εργαλεία κοπής, καλούπια |
|
5 |
TiN Ceramic Target |
Ti + N |
Καταθέτει χρυσές-μεμβράνες TiN |
Αντοχή στη φθορά, διακοσμητικές επιστρώσεις |
|
6 |
Στόχος TiSi2 |
Ti:Si ≈ 1:2 |
Πυριτικά φιλμ χαμηλής ειδικής αντίστασης |
Επαφές και πύλες ημιαγωγών |
Πώς κατασκευάζονται οι στόχοι τιτανίου σας

01
Τήξη υπό κενό
Αφαιρεί αέρια και μεταλλικές ακαθαρσίες

02
Ζεστή ισοστατική πίεση (HIP)
Εξαλείφει το εσωτερικό πορώδες και βελτιώνει την πυκνότητα

03
CNC Μηχανική Ακριβείας
Εγγυάται ακρίβεια διαστάσεων και επιπεδότητα

04
Εξαιρετικά-Καθαρή συσκευασία
Η σφράγιση υπό κενό ή άζωτο αποτρέπει την οξείδωση και τη μόλυνση
Αυτό διασφαλίζει ότι έχετε υψηλή-πυκνότητα, χαμηλή-σωματιδιακή και σταθερή απόδοση κατάδυσης κάθε φορά.
Τι πρέπει να προσδιορίσετε κατά την παραγγελία
Για να λάβετε τον ακριβή στόχο που χρειάζεστε, απλώς δώστε:
- Υλικό & βαθμός (Ti 99,99%, Ti-6Al-4V, TiAl, κ.λπ.)
- Σχήμα (στρογγυλό, ορθογώνιο, περιστροφικό, προσαρμοσμένο)
- Μέγεθος και ανοχή (διάμετρος × πάχος ή μήκος × πλάτος × πάχος)
- Απαιτούμενα όρια καθαρότητας και ακαθαρσίας
- Καθαρισμός επιφανειών & συσκευασία
- Ποσότητα και στόχος ημερομηνία παράδοσης
- Το μοντέλο και η εφαρμογή του συστήματος sputtering
FAQ
1. Ποιος είναι ο χρόνος παράδοσης για τους στόχους sputtering;
Τυπικά μεγέθη: Αποστολή εντός 2 εβδομάδων
Προσαρμοσμένοι στόχοι: 2–4 εβδομάδες, ανάλογα με το μέγεθος, την καθαρότητα και τη μέθοδο συγκόλλησης
2. Μπορείτε να προσαρμόσετε τους στόχους Titanium Sputtering;
Ναί. Μπορείτε να προσαρμόσετε πλήρως τους στόχους σας, όπως:
- Διαστάσεις και πάχος
- Καθαρότητα και σύνθεση κράματος
- Επίπεδο φινιρίσματος και καθαρισμού επιφάνειας
- Πλάκα στήριξης ή μέθοδος τοποθέτησης
3. Πού χρησιμοποιούνται οι στόχοι τιτανίου σας
- Ημιαγωγοί: αγώγιμα στρώματα, μεμβράνες επαφής IC
- Οπτικές επιστρώσεις: αντιανακλαστικές και διακοσμητικές μεμβράνες
- Βιομηχανικές επιστρώσεις PVD: TiN, TiAlN, στρώσεις ανθεκτικές στη φθορά-
- Αυτοκίνητο, αεροδιαστημική και ενέργεια: λειτουργικές επιστρώσεις-υψηλής απόδοσης
Προμηθευτείτε τους στόχους σας για σκεπάσματα τιτανίου από έναν αξιόπιστο κατασκευαστή
Είτε χρειάζεστετυπικούς στόχους τιτανίουήπλήρως προσαρμοσμένους στόχους υψηλής-καθαρότητας, η Baoji Zecheng Metal Materials Co., Ltd. είναι έτοιμη να υποστηρίξει τα έργα επίστρωσής σας με γρήγορη απόκριση, σταθερή ποιότητα και ανταγωνιστικές τιμές.
Στείλτε μας τις προδιαγραφές-στόχους σας σήμερα και θα λάβετε ένατεχνική προσφορά και χρόνος παράδοσης εντός 24 ωρών.
📩 Επικοινωνήστε μαζί μαςτώρα για να προσαρμόσετε τους στόχους sputtering σας για το σύστημα PVD σας.
Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχοι sputtering τιτανίου, Κίνα στόχοι sputtering τιτανίου κατασκευαστές, προμηθευτές, εργοστάσιο


